特許
J-GLOBAL ID:200903097365867711
塗膜の乾燥方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-103236
公開番号(公開出願番号):特開2001-286817
出願日: 2000年04月05日
公開日(公表日): 2001年10月16日
要約:
【要約】【課題】 25°Cで剪断速度が0.1sec-1において粘度が0.5mPa・s〜100Pa・sの塗布液をウェット膜厚50μm以上で塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程にて、塗布液を塗布して得た塗膜の乾燥速度を制御することによりモトルムラを抑制し、優れた平滑性を有する塗膜表面を形成すること。【解決手段】 25°Cで剪断速度が0.1sec-1において粘度が0.5mPa・s〜100Pa・sの塗布液をウェット膜厚50μm以上で塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布直後の塗膜中の溶媒含有量を(D0)g/m2、乾燥中のある時刻での塗膜中の溶媒含有量を(D)g/m2としたとき、D0の95質量%が塗膜から乾燥するまでの間の溶媒含有率の減少速度(ΔD/D0)/Δtが0.01〜0.06sec-1であることを特徴とする塗膜の乾燥方法。
請求項(抜粋):
25°Cで剪断速度が0.1sec<SP>-1</SP>において粘度が0.5mPa・s〜100Pa・sの塗布液をウェット膜厚50μm以上で塗布した塗膜を乾燥する乾燥工程で、塗布直後の塗膜中の溶媒含有量を(D<SB>0</SB>)g/m<SP>2</SP>、乾燥中のある時刻での塗膜中の溶媒含有量を(D)g/m<SP>2</SP>としたとき、D<SB>0</SB>の95質量%が塗膜から乾燥するまでの間の溶媒含有率の減少速度(ΔD/D<SB>0</SB>)/Δtが0.01〜0.06sec<SP>-1</SP>であることを特徴とする塗膜の乾燥方法。Δt:乾燥中のある時刻t<SB>1</SB>、t<SB>2</SB>(t<SB>1</SB><t<SB>2</SB>)の差、t<SB>2</SB>-t<SB>1</SB>ΔD:Δt間の塗膜中の溶媒含有量変化量
IPC (5件):
B05D 3/02
, B05D 7/02
, F26B 3/04
, G03C 1/74
, G03C 1/74 351
FI (5件):
B05D 3/02 Z
, B05D 7/02
, F26B 3/04
, G03C 1/74
, G03C 1/74 351
Fターム (21件):
2H023EA00
, 2H123BC00
, 2H123BC01
, 3L113AA02
, 3L113AA03
, 3L113AB02
, 3L113BA32
, 3L113CA03
, 3L113CA04
, 3L113CA08
, 3L113CA11
, 3L113CB01
, 3L113CB12
, 3L113DA24
, 4D075BB24Z
, 4D075BB93Z
, 4D075CA48
, 4D075DA04
, 4D075DB31
, 4D075DC27
, 4D075EA05
引用特許:
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