特許

J-GLOBAL ID：200903097376455270

濾過膜モジュールの洗浄方法

発明者： 中塚 修志
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 三浦 良和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-251290
公開番号（公開出願番号）：特開平11-076769
出願日： 1997年09月01日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：

【要約】【課題】 濾過膜の薬液洗浄工程において、濾過膜への吸着物質の十分な除去ができ、洗浄効果を向上でき、かつ薬液の使用量を減らすとともに、短時間で薬液洗浄が行え、さらに、洗浄コストを下げることのできる濾過膜モジュールの洗浄方法を得ることを目的とする。【解決手段】 水の膜浄化システムの透水性能が低下した濾過膜モジュールを、薬液によって洗浄して透水性能を回復させる濾過膜モジュールの洗浄方法において、 薬液を濾過膜モジュールに供給する前あるいは後のいずれか一方またはその両方の時点で、気体を濾過膜モジュールの濾過膜の透過側から圧力20kPa以上バブルポイント未満で加圧する気体加圧工程を0.1〜5分間設けることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

水の膜浄化システムの透水性能が低下した濾過膜モジュールを薬液によって洗浄して透水性能を回復させる濾過膜モジュールの洗浄方法において、 薬液を濾過膜モジュールに供給する前あるいは後のいずれか一方またはその両方の時点で、気体を濾過膜モジュールの濾過膜の透過側から圧力20kPa以上バブルポイント未満で加圧する気体加圧工程を0.1〜5分間設けることを特徴とする濾過膜モジュールの洗浄方法。

IPC (7件)：

B01D 65/02 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 61/18 ,  B01D 63/02 ,  B01D 65/06 ,  B01D 71/16 ,  C02F 1/44

FI (7件)：

B01D 65/02 ,  B01D 65/02 520 ,  B01D 61/18 ,  B01D 63/02 ,  B01D 65/06 ,  B01D 71/16 ,  C02F 1/44 H