特許

J-GLOBAL ID：200903097393149921

インキとこれを用いたオフセット印刷方法

発明者： 磯見 晃 ,  大坪 達弘 ,  安平 宣夫
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221771
公開番号（公開出願番号）：特開2000-053904
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】 オフセット印刷での印刷精度を向上し、必要に応じてガラス上に形成する精密パターンであっても十分な精度で印刷できるようにする。【解決手段】 せん断速度10s-1における粘度が1Pa・sから100Pa・sの範囲にあり、かつせん断速度0.3s-1における粘度Aとせん断速度3s-1における粘度Bの比(A/B)が2.5から8の範囲にあるインキ2aを用いて版1でインキパターン2を形成し、これをゴムブランケット3を介して印刷対象物4に転写し印刷することにより、上記のような目的を達成する。

請求項（抜粋）：

せん断速度10s-1における粘度が1Pa・sから100Pa・sの範囲にあり、かつせん断速度0.3s-1における粘度Aとせん断速度3s-1における粘度Bの比(A/B)が2.5から8の範囲にあることを特徴とするインキ。

IPC (2件)：

C09D 11/02 ,  B41M 1/06

FI (2件)：

C09D 11/02 ,  B41M 1/06

Fターム (15件)：

2H113AA01 ,  2H113AA03 ,  2H113BA03 ,  2H113BB09 ,  2H113BB22 ,  2H113BC12 ,  2H113CA17 ,  2H113DA46 ,  2H113EA12 ,  2H113FA27 ,  4J039EA48 ,  4J039FA04 ,  4J039GA03 ,  4J039GA16 ,  4J039GA34