特許

J-GLOBAL ID：200903097402669070

回転式基板洗浄装置

発明者： 大谷 正美 ,  西田 雅美
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-222630
公開番号（公開出願番号）：特開平9-047730
出願日： 1995年08月07日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】 基板から離脱した汚染物を基板の外方に良好に排出して洗浄性を向上する。【解決手段】 基板保持手段4によって鉛直方向の軸芯P1周りで回転可能に保持された基板Wの表面に、ノズル移動手段により往復動されるノズル12によって洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給するときに、そのノズル12から噴出される洗浄液の基板表面での到達点が、基板Wの回転中心P1から外周端縁に向かって一方向に移動するときにのみ、洗浄液を噴出させる。

請求項（抜粋）：

基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面に洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給するノズルと、前記ノズルを往復動させるノズル移動手段とを備えた回転式基板洗浄装置において、前記ノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点が、前記基板の回転中心から外周端縁に向かって一方向に移動するように、前記ノズル移動手段の往復動に対して、前記ノズルからの洗浄液の噴出を間欠的にしたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。

IPC (3件)：

B08B 3/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (3件)：

B08B 3/02 D ,  H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 N