特許
J-GLOBAL ID:200903097408868466

半導体製造装置およびその制御方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 深見 久郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-305274
公開番号(公開出願番号):特開2001-127131
出願日: 1999年10月27日
公開日(公表日): 2001年05月11日
要約:
【要約】【課題】 省スペースで効率的な半導体の生産を可能にするための、半導体製造装置およびその制御方法を提供する。【解決手段】 製造・検査装置本体部1、カセット移載部2、CIMシステム3、および、カセット搬送システム4から構成される。また、製造・検査装置本体部1は、複数の製造・検査装置5〜7を備えている。カセット移載部2は、処理を行なうカセット、特に検査装置の場合において不良判定の基板を振り分けるため、不良基板収容用カセットを置くための第1モジュールを構成するカセットポート8〜14と、それらカセットをストックするための第2モジュールを構成するカセットポート15〜19とを備えている。
請求項(抜粋):
複数の装置を有する本体部と、複数の前記装置に対し兼用可能に設けられ、カセットの移載を行なうカセット移載部と、を備える、半導体製造装置。
Fターム (7件):
5F031DA01 ,  5F031DA17 ,  5F031FA03 ,  5F031FA15 ,  5F031MA03 ,  5F031MA09 ,  5F031PA04

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