特許
J-GLOBAL ID:200903097418263740
窒化ケイ素粉末およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
和田 昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-034186
公開番号(公開出願番号):特開平5-193914
出願日: 1992年01月24日
公開日(公表日): 1993年08月03日
要約:
【要約】【目的】 この発明は、高強度窒化ケイ素焼結体の原料である窒化ケイ素粉末において、高強度で特性が大きくばらつくことがない焼結体が安定して得られる易焼結性の窒化ケイ素粉末を提供することを目的とする。【構成】 X線光電子分光(XPS)より求められる表面ケイ素[Si]のうち、SiO2に帰属されるケイ素[ Si*]の割合が原子比[ Si*/Si]で0.07〜0.50の範囲にあり、かつ、同じくXPSより求められる表面炭素[C ]がケイ素に対して原子比[ C/Si]で0.20以下である窒化ケイ素粉末である。
請求項(抜粋):
X線光電子分光(XPS)より求められる表面ケイ素[Si]のうち、SiO2に帰属されるケイ素[ Si*]の割合が原子比[ Si*/Si]で0.07〜0.50の範囲にあり、かつ、同じくXPSより求められる表面炭素[C ]がケイ素に対して原子比[ C/Si]で0.20以下であることを特徴とする窒化ケイ素粉末。
IPC (2件):
C01B 21/068
, C04B 35/58 102
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平3-199167
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特公昭52-039722
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特開平2-107509
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