酸解離性有機基含有スチレン系重合体および感放射線性樹脂組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福沢俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-204082
公開番号（公開出願番号）：特開2002-023370
出願日： 2000年07月05日
公開日（公表日）： 2002年01月23日
要約：

【要約】【課題】放射線に対する吸収が極めて小さく、特に化学増幅型レジストに好適な感放射線性樹脂組成物における樹脂成分として有用な重合体、並びに微細なパターンサイズにおいてもパターンの矩形性を確保でき、かつ各種の放射線に対して高感度(低露光エネルギー量)であり、しかもPEDの変動によりパターンが線幅の変化を生じたりT型形状になったりすることがなく、かつ解像性能にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】重合体は、下記式(1)で表される繰返し単位を必須単位とし、感放射線性樹脂組成物は、(A)前記重合体並びに(B)感放射線性酸発生剤を含有する。【化1】〔式(1)において、R1 は酸の存在下で解離して酸性官能基を生じる炭素数20以下の酸性解離性有機基を示し、R2 は水素原子またはメチル基を示す。〕

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される繰返し単位を必須単位とし、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)によるポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜500,000である重合体。【化1】〔式(1)において、R1 は酸の存在下で解離して酸性官能基を生じる炭素数20以下の酸性解離性有機基を示し、R2 は水素原子またはメチル基を示す。〕

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/22 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/22 , C08K 5/00 , C08L 25/18 , H01L 21/30 502 R

Fターム (34件)：

2H025AA00 , 2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC06 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA03 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4J002BC121 , 4J002EB106 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV266 , 4J002FD146 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J100AB07P , 4J100BA02P , 4J100BA04P , 4J100BA15P , 4J100BC04P , 4J100BC43P , 4J100BC53P , 4J100CA01 , 4J100CA04 , 4J100JA37

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