感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパタ-ンの製造法及びプリント配線板の製造法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-013735
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214583
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】最少現像時間が短かく、レジスト硬化膜がスプレー等の衝撃により割れ、さらに密着性及び解像度が特に優れた感光性樹脂組成物及びそれを使用した感光性エレメント、及びレジストパターンの製造法並びにこのレジストパターンを有するプリント配線板の製造法を提供する。【解決手段】 (A)スチレン又はスチレン誘導体を共重合成分として含むカルボキシル基含有バインダーポリマー、(B)光重合開始剤及び(C)下記一般式(I)で表される化合物を必須成分として含む、分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(A)スチレン又はスチレン誘導体を共重合成分として含むカルボキシル基含有バインダーポリマー、(B)光重合開始剤及び(C)一般式(I)【化1】(式中、R1及びR2は各々独立に水素原子又はメチル基を示し、Y1及びY2は各々独立に炭素数2〜6のアルキレン基を示し、Z1及びZ2は各々独立にハロゲン原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、アリル基、炭素数1〜10のアルキルメルカプト基、炭素数1〜20のヒドロキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のカルボキシアルキル基、アルキル基の炭素数が1〜10のアシル基、炭素数1〜20のアルコキシ基又は複素環を含む基を示し、m及びnはm+n=4〜12になるような正の整数であり、q及びpは各々独立に1〜4ある)で表される化合物を必須成分として含む、分子内に少なくとも一つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。

IPC (8件)：

G03F 7/027 502 , C08F220/30 , C08F257/00 , C08F299/02 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H05K 3/06 , H05K 3/18

FI (8件)：

G03F 7/027 502 , C08F220/30 , C08F257/00 , C08F299/02 , G03F 7/028 , G03F 7/033 , H05K 3/06 H , H05K 3/18 D

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