特許

J-GLOBAL ID：200903097432061425

ビーム発生ユニットの調整方法

発明者： 永田 信一
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-034482
公開番号（公開出願番号）：特開平6-230315
出願日： 1993年01月28日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：

【要約】【目的】 ビーム発生ユニットを構成するビーム整形レンズの焦点深度より小さな調整誤差で、半導体レーザーとビーム整形レンズとの光軸方向における間隔を調整することができるビーム発生ユニットの調整方法を提供する。【構成】 集光レンズ46の後側主点と観察光学系の観察点との間に平行平面板(非点収差発生素子)50が配置され、それによって平行平面板50を透過した光ビームが非点光束となる。このため、観察光学系で観察される観察像は、半導体レーザー11とコリメートレンズ13との間隔が設定値のとき最小錯乱円となる一方、その間隔がわずかにずれるだけでも、楕円形状に変化する。したがって、観察像が最小錯乱円となる位置をビーム発生ユニット10の調整目標位置とし、観察像を観察しながら半導体レーザー11およびコリメートレンズ13のうち少なくとも一方を光軸方向zに移動させてビーム発生ユニット10を高精度に調整する。

請求項（抜粋）：

半導体レーザーとビーム整形レンズとで構成されるビーム発生ユニットから出射される光ビームを集光レンズで集光するとともに、その集光点近傍の観察点での像を観察光学系によって観察し、その観察像に基づき前記半導体レーザーと前記ビーム整形レンズとの間隔を調整するビーム発生ユニットの調整方法において、前記集光レンズの後側主点と前記観察点との間に非点収差発生素子を配置することにより非点収差を発生させ、さらに前記観察光学系で観察される観察像が最小錯乱円となるように、前記半導体レーザーおよび前記ビーム整形レンズのうち少なくとも一方を光軸方向に移動させることを特徴とするビーム発生ユニットの調整方法。