特許
J-GLOBAL ID：200903097438814115
シリカガラスの高屈折率化の方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-247495
公開番号（公開出願番号）：特開平8-169731
出願日： 1995年09月26日
公開日（公表日）： 1996年07月02日
要約：
【要約】【課題】 短時間で効率的にシリカガラスの屈折率を増大させる方法を提供する。【解決手段】 シリカガラスの高屈折率化の方法は、1.2Å〜7.0Åの範囲内の波長を有するX線(2)をシリカガラス(1)の所定の照射領域(1A)に照射し、その照射領域(1A)内のシリコン原子のK殻電子をX線(2)で励起することによって照射領域(1A)内の屈折率を効率的に高めることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
シリカガラスを用意し、1.2Å〜7.0Åの範囲内の波長を有するX線を前記シリカガラスの所定の照射領域に照射し、前記照射領域内のシリコン原子のK殻電子を前記X線で励起することによって前記照射領域内の屈折率を高めることを特徴とするシリカガラスの高屈折率化の方法。
IPC (3件)：
C03C 23/00
, G21K 5/02
, H05H 13/04
