特許

J-GLOBAL ID：200903097461850757

洗浄剤組成物

発明者： 牛山 広俊 ,  篠原 明 ,  木村 明
出願人/特許権者： ライオン株式会社
代理人 (1件)： 中村 稔 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-102666
公開番号（公開出願番号）：特開平6-313190
出願日： 1993年04月28日
公開日（公表日）： 1994年11月08日
要約：

【要約】【目的】 特に液晶物質、半田フラックス、油脂類等に対して高度な洗浄性能を有し、しかも水系で使用できる洗浄剤組成物を提供すること。【構成】 一般式Iで示される化合物を含有する洗浄剤組成物。R1-O-(PO)m-(EO)n-(XO)k-H (I)(式中、R1 は、炭素数10〜22のアルキル基、アルケニル基又はアルキルフェニル基、PO、EO及びXOは、それぞれプロピレンオキシド単位、エチレンオキシド単位及び炭素数3以上のアルキレンオキシド単位であり、PO、EO及びXOの付加形態はブロックである。mは1〜8、nは1〜40、kは(XO)kの炭素数の合計が3〜120となる数である。)

請求項（抜粋）：

一般式Iで示される化合物を含有する洗浄剤組成物。R1-O-(PO)m-(EO)n-(XO)k-H (I)(式中、R1 は、炭素数10〜22のアルキル基、アルケニル基又はアルキルフェニル基、PO、EO及びXOは、それぞれプロピレンオキシド単位、エチレンオキシド単位及び炭素数3以上のアルキレンオキシド単位であり、PO、EO及びXOの付加形態はブロックである。mは1〜8、nは1〜40、kは(XO)kの炭素数の合計が3〜120となる数である。)

IPC (5件)：

C11D 1/722 ZAB ,  C11D 1/825 ,  C23G 5/032 ,  C11D 1:722 ,  C11D 1:72

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-333656