特許
J-GLOBAL ID:200903097461936996
セラミックおよび金属の被膜を堆積させるための前駆体化合物、およびその調製方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
千田 稔
, 橋本 幸治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-068623
公開番号(公開出願番号):特開2005-281308
出願日: 2005年03月11日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】セラミックおよび金属の被膜を堆積させるための前駆体化合物、およびその調製方法【解決手段】本発明は、セラミックおよび金属の被膜を堆積させるための前駆体化合物に関する。本発明は、シリコン基体上にセラミックおよび金属の被膜、たとえば、金属窒化物、金属酸化物、金属ケイ化物、混合金属窒化物、酸化物、およびケイ化物、ならびに純金属を堆積させるために使用される前駆体化合物、その調製方法、および前記化合物を使用して被膜を前記基体上に形成する方法を提供する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
化学式1
RN=M(NR1R2)n-3[N(CH3)C2H5](化学式1)
のセラミックおよび金属の被膜の堆積のための化合物
(式中、Mは周期表の3A族、4A族、5A族、3B族、4B族、5B族、6B族、7B族、または8B族の金属であり、nは3〜6の整数であり、R、R1、およびR2は、同一であっても異なっていても良く、アルキル、ペルフルオロアルキル、アルキルアミノアルキル、アルコキシアルキル、シリルアルキル、アルコキシシリルアルキル、シクロアルキル、ベンジル、アリル、アルキルシリル、アルコキシシリル、アルコキシアルキルシリル、およびアミノアルキルシリルからなる群より選択され、これらの基のそれぞれは1〜8個の水素原子または炭素原子を有し、但し、n=5でありRがアルキル、シリルアルキル、シクロアルキル、およびベンジルから選択される場合には、R1およびR2の少なくとも1つはメチルでもエチルでもない)。
IPC (5件):
C07F9/00
, C07F7/00
, C07F7/10
, C23C16/18
, H01L21/318
FI (5件):
C07F9/00 Z
, C07F7/00 Z
, C07F7/10 E
, C23C16/18
, H01L21/318 B
Fターム (27件):
4H049VN07
, 4H049VP01
, 4H049VQ35
, 4H049VQ40
, 4H049VR52
, 4H049VS12
, 4H049VU24
, 4H050AA01
, 4H050AA03
, 4H050AB90
, 4H050WB14
, 4H050WB21
, 4K030BA02
, 4K030BA08
, 4K030BA09
, 4K030BA11
, 4K030BA38
, 4K030BA42
, 4K030LA02
, 4K030LA12
, 5F058BA11
, 5F058BC09
, 5F058BF01
, 5F058BF02
, 5F058BF27
, 5F058BF30
, 5F058BJ04
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (3件)
-
金属膜の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-183563
出願人:日本真空技術株式会社
-
特許第6552209号
-
特許第6552209号
前のページに戻る