特許

J-GLOBAL ID：200903097464830285

ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、ノズル洗浄プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者： 平尾 剛 ,  藤本 昭浩 ,  相馬 康孝
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-142665
公開番号（公開出願番号）：特開2007-317706
出願日： 2006年05月23日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：

【課題】基板に処理液を吐出するノズルを洗浄するノズル洗浄装置において、基板処理に不具合が生じないようノズル先端を効率的に洗浄し、且つ装置コストを低減することのできるノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、ノズル洗浄プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。【解決手段】ノズル30を収容し、少なくともノズル30先端周囲の内周面が漏斗状に形成された洗浄室1と、洗浄室1の漏斗状の内周面に沿って周方向に洗浄液としての溶剤Tを流入する洗浄液供給手段とを備え、ノズル30が洗浄室1内に収容された際、洗浄液供給手段21が洗浄室1内に溶剤Tを所定量供給し、ノズル30の回りを旋回する溶剤Tの渦が形成される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板に処理液を吐出するノズルを洗浄するノズル洗浄装置において、 前記ノズルを収容し、少なくともノズル先端周囲の内周面が漏斗状に形成された洗浄室と、前記洗浄室の漏斗状の内周面に沿って周方向に洗浄液としての溶剤を流入する洗浄液供給手段とを備え、 前記ノズルが前記洗浄室内に収容された際、前記洗浄液供給手段が前記洗浄室内に溶剤を所定量供給することにより、前記ノズルの回りを旋回する溶剤の渦が形成されることを特徴とするノズル洗浄装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05D 3/10 ,  B05D 1/26 ,  B05C 11/10

FI (4件)：

H01L21/30 564 ,  B05D3/10 F ,  B05D1/26 Z ,  B05C11/10

Fターム (14件)：

4D075AC06 ,  4D075BB65Y ,  4D075BB69Y ,  4D075CA47 ,  4D075DA08 ,  4D075DB14 ,  4D075DC22 ,  4D075EA07 ,  4D075EA45 ,  4F042CC04 ,  4F042CC08 ,  4F042DA01 ,  5F046JA02 ,  5F046JA27

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 塗布ノズルの洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-117350   出願人：三菱電機株式会社