特許
J-GLOBAL ID：200903097465031033
表面詳細合成システム及び表面詳細合成プログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-083814
公開番号（公開出願番号）：特開2004-295259
出願日： 2003年03月25日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】表面詳細を基本形状の表面に高精度で合成する。【解決手段】合成基準設定部11により表面詳細メッシュと基本形状メッシュのそれぞれについて合成位置・方向を定める合成基準を設定し、パラメタライゼーション構築部12により少なくとも各合成基準の始点・方向が一致するように両メッシュにそれぞれ対応するパラメタライゼーションを構築し、位相合成部13によりパラメータ平面上で両者の位相を合成し、幾何合成部14により逆写像を適用し、基本形状メッシュ表面における表面詳細メッシュとの位相が合成された各頂点に面法線方向へ表面詳細メッシュの高さ値を与えることで、基本形状メッシュの表面に表面詳細メッシュを合成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
表面詳細メッシュと基本形状メッシュのそれぞれについて合成位置・方向を定める合成基準を設定する合成基準設定手段と、
表面詳細メッシュと基本形状メッシュのそれぞれについてパラメータ平面への写像を用いて少なくとも各合成基準の始点・方向が一致するようにパラメタライゼーションを構築するパラメタライゼーション構築手段と、
表面詳細メッシュと基本形状メッシュのそれぞれのパラメタライゼーションの位相を合成して平面合成グラフを得る位相合成手段と、
平面合成グラフに逆写像を適用し、基本形状メッシュ表面における表面詳細メッシュとの位相が合成された各頂点に、面法線方向へ表面詳細メッシュの高さ値を与える幾何合成手段と、
を有することを特徴とする表面詳細合成システム。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G06F17/50 622Z
, G06F17/50 622C
, G06T17/40 B
5B046FA06
, 5B046FA17
, 5B046FA18
, 5B050EA03
, 5B050EA05
, 5B050EA07
, 5B050EA19
, 5B050EA28
