特許
J-GLOBAL ID：200903097466989001

カーボン保護膜、磁気記録媒体及びそれらの製造方法ならびに磁気ディスク装置

発明者：
兵藤 浩之

兵藤 浩之 について

, 
山本 尚之

山本 尚之 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 石田 敬 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-072727
公開番号（公開出願番号）：特開2002-032907
出願日： 2001年03月14日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：
【要約】【課題】 膜厚が5nm以下の薄膜の時にも優れた耐久性を示し、しかもその耐久性を長期にわたって維持することのできる、特に磁気記録媒体に好適なカーボン保護膜を提供すること。【解決手段】 非磁性の基板上に堆積された磁気記録層を保護するカーボン保護膜を備えた磁気記録媒体であって、前記カーボン保護膜が、FCA法によって堆積されたものであり、かつその保護膜中に窒素を含有しているように構成する。
請求項（抜粋）：
下地を保護するカーボン保護膜であって、該カーボン保護膜が、前記下地の上にFiltered Cathodic Arc 法によって堆積されたものであり、その保護膜中に窒素を含有していることを特徴とするカーボン保護膜。
IPC (4件)：
G11B 5/72 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/24 ,  G11B 5/84
FI (4件)：
G11B 5/72 ,  C23C 14/06 F ,  C23C 14/24 F ,  G11B 5/84 B
Fターム (13件)：
4K029AA24 ,  4K029BA34 ,  4K029BC02 ,  4K029BD11 ,  4K029CA03 ,  4K029DD06 ,  5D006AA02 ,  5D006AA04 ,  5D006AA05 ,  5D006FA02 ,  5D112AA07 ,  5D112BC05 ,  5D112FA01
引用特許：
審査官引用 (3件)

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