特許
J-GLOBAL ID：200903097468849509
酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲット
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-180352
公開番号（公開出願番号）：特開平6-002130
出願日： 1992年06月15日
公開日（公表日）： 1994年01月11日
要約：
【要約】【目的】 液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置の透明電極、帯電防止導電膜コーティング、ガスセンサーなどに用いられる酸化亜鉛系透明導電膜を短時間のスパッタリングにより形成することのできるスパッタリング用ターゲットを提供する。【構成】 Al、BまたはSiなどの導電活性元素を含有し、相対密度が85%以上ある酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲットにおいて、結晶粒の平均粒径が2μm以下の組織を有することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
相対密度が85%以上の酸化亜鉛系焼結体からなるスパッタリング用ターゲットにおいて、結晶粒の平均粒径が2μm以下の組織を有することを特徴とする酸化亜鉛系スパッタリング用ターゲット。
IPC (2件)：
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