現像装置及び現像方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田辺恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-266334
公開番号（公開出願番号）：特開平9-090644
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1997年04月04日
要約：

【要約】【課題】本発明は、現像装置及び現像方法において、レジスト層表面に残留した現像液によつて現像完了後に意図しない現像が進行してしまう後現像による現像のばらつきを防止するようにする。【解決手段】希釈した酸でなる定着液を基板表面のレジスト層に供給する定着液供給手段を設けるようにした。また所定周波数以上の波を定着液に印加する印加手段を配した定着液供給手段を設けるようにした。また定着液に高圧力を加えて基板表面に供給するようにした。さらに所望の温度に温めた定着液を供給するようにした。レジスト層表面に残留する現像液は、希釈した酸でなる定着液により中和される。また所定周波数以上の波を印加した定着液により短時間で拡散される。また高圧力により基板表面の拡散層を薄くさせる。さらに温めることにより定着液の反応を促進させる。

請求項（抜粋）：

基板表面に形成され、露光記録によつて所望の情報パターンを潜像記録されたレジスト層にアルカリ性でなる現像液を供給する現像液供給手段と、上記レジスト層に定着液を供給する定着液供給手段とを具え、上記定着液を現像完了直後に供給することにより上記レジスト層の現像を停止させることを特徴とする現像装置。

IPC (3件)：

G03F 7/30 502 , G11B 7/26 501 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/30 502 , G11B 7/26 501 , H01L 21/30 569 F , H01L 21/30 569 G , H01L 21/30 569 C

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