特許
J-GLOBAL ID：200903097472771166

植物栽培装置

発明者：
上野 利浩

上野 利浩 について


出願人/特許権者：
有限会社プロテック電子工業

有限会社プロテック電子工業 について


代理人 (1件)： 中村 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-051560
公開番号（公開出願番号）：特開2003-250367
出願日： 2002年02月27日
公開日（公表日）： 2003年09月09日
要約：
【要約】【課題】 植物の根部分に養液を噴霧し、霧状養液を含む空気を流動させて栽培箱内の湿度を好適に保持して葉の乾燥防止と養分補給を実現する。また流動する空気と炭酸ガスによる急激な温度変化がないので栽培に好適な環境を形成する。【解決手段】 外箱1は断熱性と気密性を有し、蓋体によって開口部は開閉可能に構成してある。外箱1内に設けた栽培箱7は内面にアルミニュウム箔等の反射材が設けてある。栽培箱7の内部は栽培床9によって上部は栽培室14に、下部は噴霧室15に画成してあり、栽培室14は蛍光灯18で照射してある。栽培箱7内に浄化した外気を温度を調整して流動させる。また、根部分に噴射する霧状養液は栽培室14に空気、炭酸ガスと共に流動させる。
請求項（抜粋）：
断熱性と気密性を有し、開口部は蓋体によって密閉可能に構成した外箱と、該外箱内に間隙を存して設けられ、内面は反射材により覆った栽培箱と、複数の植栽穴を形成した板体からなり、該栽培箱内に設けられて上部に栽培室、下部に噴霧室を画成する栽培床と、前記栽培箱に設けられ、前記栽培室を照射する発光体と、前記栽培床に下方から養液を噴霧する養液噴霧管に養液を供給する養液噴霧装置と、前記栽培箱に外気を取り込んで循環させる空気循環装置と、前記栽培箱に炭酸ガスを供給するガス供給装置とから構成し、前記空気循環装置は浄化して取り込んだ外気を室温に調節して前記栽培箱内に循環させ、前記ガス供給装置は炭酸ガスを室温に調節して前記栽培箱に供給することを特徴とする植物栽培装置。
IPC (4件)：
A01G 31/00 601 ,  A01G 31/00 602 ,  A01G 31/00 610 ,  A01G 31/00 612
FI (4件)：
A01G 31/00 601 C ,  A01G 31/00 602 ,  A01G 31/00 610 ,  A01G 31/00 612
Fターム (19件)：
2B314MA24 ,  2B314MA38 ,  2B314MA39 ,  2B314MA42 ,  2B314NA28 ,  2B314NA32 ,  2B314NC24 ,  2B314NC49 ,  2B314ND07 ,  2B314PB22 ,  2B314PB24 ,  2B314PB32 ,  2B314PB64 ,  2B314PD40 ,  2B314PD43 ,  2B314PD48 ,  2B314PD50 ,  2B314PD52 ,  2B314PD61
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 特開平3-292828
  • 特開昭55-068224
  • 育苗装置及び育苗方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-049152   出願人：トヨタ自動車株式会社

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