特許

J-GLOBAL ID：200903097522416338

単分散ポリマー粒子の製造方法

発明者： 山本 展久 ,  鈴木 広志 ,  田中 誠
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-213874
公開番号（公開出願番号）：特開平8-100006
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】 単分散ポリマー粒子を製造する際、シード重合において、系内に添加する重合性モノマーを完全にシード粒子に吸収させることは非常に困難である。吸収されずに系内に残る重合性モノマーに起因する様々な悪影響が考えられ、残存重合性モノマー除去の画期的な方法が求められている。【構成】 シード重合において、重合性モノマーをシード粒子に吸収させた後に、別に調製したポリマー粒子を系内に加えることにより、吸収されずに残る重合性モノマーを吸収・除去するという製造方法。この際、加える別に調製したポリマー粒子は、目的とする単分散ポリマー粒子よりも大きな粒径を持ち、非架橋性の、もしくは架橋していても細孔を持つ粒子であるという特徴を有する。

請求項（抜粋）：

分散媒中に分散させたシード粒子に重合性モノマーを混合しシード粒子に該重合性モノマーを吸収させ、次の段階で、目的とする単分散ポリマー粒子と粒径の異なるポリマー粒子を加えることにより、前の段階で吸収されずに残存している重合性モノマーを該ポリマー粒子に吸収させた後、重合反応を行い生成したポリマー粒子を分級することを特徴とする単分散ポリマー粒子の製造方法。