投影露光装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-042770
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074089
出願日： 1987年12月25日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：

【要約】【目的】ウエハの表面と目標平面とのずれが大きい場合でも、高速かつ正確にウエハのフォーカス位置調整及びレベリングを可能とする。【構成】投影露光装置はウエハWを載置するXYステージ8を有する。XYステージ8はフォーカス位置及びレベリング状態を調整可能なレベリングステージ9を有する。また、投影露光装置は、ウエハWの高さ位置を検出するフォーカスセンサを有する(3〜7、13〜17)。フォーカスセンサからの信号に基づいて、ウエハ表面の状態制御(フォーカス調整及びレベリング調整)を行う際、オープン制御とモニタリグ制御とのどちから一方を指定する指定手段を設ける。

請求項（抜粋）：

感光基板上の複数のショット領域の1つにマスクのパターンを投影する投影光学系と、該投影光学系の最良結像面内の特定位置に検出点が設定され、該検出点における前記感光基板表面のフォーカスずれ量を測定するフォーカスセンサーと、前記感光基板を最良結像面に沿って2次元移動させるXYステージと、最良結像面に対する前記感光基板のフォーカス位置、又はレベリング位置を調整する調整ステージとを備えた投影露光装置において、前記フォーカスセンサーを使って前記感光基板上の複数点の各々のフォーカスずれ量を検知し、前記感光基板表面の現在の平面状態を測定する測定手段と;該測定された平面状態を所望の目標平面にもたらすのに必要な前記調整ステージの駆動量を算出する第1の演算手段と;該算出された駆動量と前記調整ステージの駆動部に設けられた駆動量検出器の出力とに基づいて、前記調整ステージを駆動する第1の制御手段と;前記感光基板を測定時の平面状態から所望の状態にずらしたときに生じる前記感光基板上の任意の着目点のフォーカス方向のオフセット量を、前記測定手段の測定結果に基づいて算出する第2の演算手段と;前記フォーカスセンサーによって前記感光基板上の着目点のフォーカスずれ量を検出しつつ、前記算出されたオフセット量分だけ前記着目点の位置が補正されるように前記調整ステージを駆動する第2の制御手段と;前記第1の制御手段と前記第2の制御手段のいずれか一方の使用を指定する指定手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03B 27/53 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開昭62-182612
特開昭59-047731
特開昭62-183928

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