特許

J-GLOBAL ID：200903097529836740

温度応答性クロマトグラフィー担体、製造方法及びそれを用いた温度応答性クロマトグラフィー法

発明者： 岡野 光夫 ,  菊池 明彦 ,  小林 純 ,  秋山 義勝 ,  長瀬 健一
出願人/特許権者： 岡野 光夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-291719
公開番号（公開出願番号）：特開2007-069193
出願日： 2005年09月02日
公開日（公表日）： 2007年03月22日
要約：

【課題】表面に0〜80°Cの温度範囲内で水和力が変化するポリマーを高密度に固定化した温度応答性クロマトグラフィー担体を提供すること。【解決手段】基材表面に原子移動ラジカル重合開始剤を固定化し、その開始剤から触媒下で原子移動ラジカル法により0〜80°Cの温度範囲内で水和力が変化するポリマーを成長反応させること。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

基材表面に0〜80°Cの温度範囲内で水和力が変化するポリマーが0.08分子鎖/nm2以上の割合で高密度に固定化されていることを特徴とする温度応答性クロマトグラフィー担体。

IPC (5件)：

B01J 20/285 ,  G01N 30/88 ,  B01J 20/281 ,  B01J 20/286 ,  G01N 30/54

FI (8件)：

G01N30/48 S ,  G01N30/48 G ,  G01N30/48 L ,  G01N30/88 C ,  G01N30/88 J ,  G01N30/88 E ,  G01N30/54 A ,  B01J20/26 L

Fターム (18件)：

4G066AA22C ,  4G066AA71C ,  4G066AC02B ,  4G066AC13B ,  4G066AC17B ,  4G066AC33B ,  4G066BA01 ,  4G066BA02 ,  4G066BA09 ,  4G066BA38 ,  4G066CA20 ,  4G066CA54 ,  4G066CA56 ,  4G066DA07 ,  4G066EA01 ,  4G066FA09 ,  4G066GA16 ,  4G066GA32

引用特許：

審査官引用 (2件)

• グラフト修飾有機多孔質体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-128356   出願人：オルガノ株式会社
• 特公平6-104061
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Chem.Rev., 2001, vol.101, p.2921-2990