特許
J-GLOBAL ID：200903097536928340
プラズマ処理装置における予熱方法及びプラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-182815
公開番号（公開出願番号）：特開平11-031599
出願日： 1997年07月08日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：
【要約】【課題】 封止板の初期温度の変動に拘らず、封止板を所定温度まで昇温して、処理室内の温度を所定の温度範囲に制御することができるプラズマ処理装置の予熱方法、及びその実施に使用するプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 制御装置40は、温度測定器33から与えられる封止板7の温度を取り込み、取り込んだ温度と予め設定された閾値温度とを比較し、前者が後者より低い場合、ガス導入管6から予熱用のガスを供給しつつ、マイクロ波発振器23で発振させたマイクロ波を誘電体線路21を経て封止板7から反応器1内へ導入することによって、反応器1内にプラズマを生成し、生成したプラズマによって反応器1,載置台4と共に封止板7を加熱して、処理室2内の温度を上昇させる。制御装置40は、取り込んだ温度が閾値温度以上であると判断すると、予熱用のガスの供給及びマイクロ波の発振を停止する。
請求項（抜粋）：
マイクロ波を透過する封止板で開口を封止してある反応器内へ、前記封止板からマイクロ波を導入してプラズマを生成するプラズマ処理装置で、生成したプラズマによって前記反応器及び封止板を予熱する方法において、前記封止板の温度を測定し、測定した温度と予め設定した閾値温度とを比較し、閾値温度に達した場合、プラズマの生成を停止することを特徴とするプラズマ処理装置における予熱方法。
IPC (8件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
, H01P 1/08
, H01P 3/16
, H01P 5/08
H05H 1/46 B
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01P 1/08
, H01P 3/16
, H01P 5/08 K
, H01L 21/30 572 A
, H01L 21/302 A
