特許
J-GLOBAL ID:200903097538558817
半導体装置特性シミュレーション方法及び半導体装置特性シミュレータ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐藤 隆久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-368046
公開番号(公開出願番号):特開2004-200461
出願日: 2002年12月19日
公開日(公表日): 2004年07月15日
要約:
【課題】トランジスタの特性の劣化及び回復を正確にシミュレーションし、半導体装置を信頼性良く設計することを可能とするシミュレータ及びその方法を提供する。【解決手段】負のゲート電圧Vgを印加すると、トランジスタの特性は劣化し、総劣化量△Pが増大する。負のゲート電圧Vgを下げると、トランジスタの特性は回復し、総劣化量△Pが減少する。劣化期間と回復期間において、ゲート電圧の印加時間tの対数log(t)の線形式を用い、劣化量△PDと回復量△PDを計算する。即ち、ΔPD(t)=CD+BD・log(t)、ΔPR(t)=CR+BR・log(t)。ここで、CD、BD、CR、BRは定数である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
複数のトランジスタで構成される回路の特性をシミュレーションする半導体装置特性シミュレーション方法において、
複数の使用条件に基づいて、劣化前の前記回路のシミュレーションを行なう第1のシミュレーション工程と、
前記複数の使用条件に基づいて、劣化後の前記回路のシミュレーションを行なう第2のシミュレーション工程と、
前記第1のシミュレーション工程の結果と前記第2のシミュレーション工程の結果とを比較し、劣化による前記回路の特性を評価する評価工程と
を備えることを特徴とする
半導体装置特性シミュレーション方法。
IPC (7件):
H01L21/82
, G06F17/50
, H01L21/336
, H01L21/8234
, H01L27/088
, H01L29/00
, H01L29/78
FI (5件):
H01L21/82 T
, G06F17/50 666Y
, H01L29/00
, H01L29/78 301Z
, H01L27/08 102Z
Fターム (15件):
5B046AA08
, 5B046CA04
, 5B046JA04
, 5F048AA00
, 5F048AB10
, 5F048AC01
, 5F048BA01
, 5F064CC09
, 5F064HH09
, 5F064HH10
, 5F064HH12
, 5F140AA00
, 5F140DB04
, 5F140DB06
, 5F140DB10
引用特許:
前のページに戻る