特許

J-GLOBAL ID：200903097538993742

転写リソグラフィのための透明テンプレートと基板の間のギャップおよび配向を高精度でセンシングするための方法

発明者： ベイリー,トッド ,  チョイ,ビュン・ジン ,  コルバーン,マシュー ,  スリーニバサン,エス・ブイ ,  ウィルソン,シイ・グラント ,  エッカート,ジョン
出願人/特許権者： ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-516600
公開番号（公開出願番号）：特表2004-505273
出願日： 2001年08月01日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：

転写リソグラフィ・プロセスで使用される、テンプレートと基板の間のギャップと配向を高精度で測定する方法が説明されている。本明細書で示すギャップおよび配向測定方法には、広帯域光をベースとした測定技法が使用されている。

請求項（抜粋）：

パターン化されたテンプレートと基板の間の間隙を測定する方法であって、 パターン化されたテンプレートと基板を、パターン化されたテンプレートと基板の間にギャップが生成されるように互いに間隔を隔てて位置決めするステップと、 複数の波長からなる光を、パターン化されたテンプレートと基板に照射するステップと、 パターン化されたテンプレートと基板の表面で反射する光をモニタするステップと、 モニタした光に基づいて、パターン化されたテンプレートの表面と基板の表面の間の距離を測定するステップとを含む方法。

IPC (3件)：

G01B11/14 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G01B11/14 G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502D

Fターム (15件)：

2F065AA06 ,  2F065BB03 ,  2F065CC17 ,  2F065DD03 ,  2F065FF55 ,  2F065GG23 ,  2F065HH08 ,  2F065NN06 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ29 ,  5F046BA02 ,  5F046CB17 ,  5F046DA17 ,  5F046DB08