特許

J-GLOBAL ID：200903097546357707

テトラキス[ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)シリル]ベンゼンとその製造方法

発明者： 島田 茂 ,  田中 正人 ,  林 輝幸
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-221443
公開番号（公開出願番号）：特開2001-048888
出願日： 1999年08月04日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】 ケイ素上に水素と、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基を有する、テトラキス[ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)シリル]ベンゼン類を提供する。【解決手段】 一般式(2)【化1】(式中、Rは電子供与性置換基を有するフェニル基を表す。)で表されるテトラキス(ジアリールシリル)ベンゼン類から、トリフルオロメタンスルホン酸を用いて置換基Rをトリフルオロメタンスルホニルオキシ置換することにより、一般式(1)【化2】で表されるテトラキス[ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)シリル]ベンゼンを製造する。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】で表される、テトラキス[ビス(トリフルオロメタンスルホニルオキシ)シリル]ベンゼン。

IPC (2件)：

C07F 7/12 ,  C08G 77/28

FI (2件)：

C07F 7/12 W ,  C08G 77/28

Fターム (15件)：

4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ54 ,  4H049VR11 ,  4H049VR21 ,  4H049VR42 ,  4H049VS07 ,  4H049VT54 ,  4H049VU20 ,  4H049VU29 ,  4J035CA021 ,  4J035CA031 ,  4J035CA151 ,  4J035CA261 ,  4J035LB20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 含ケイ素5環性化合物、含ケイ素ラダーポリマー及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-324906   出願人：工業技術院長