特許

J-GLOBAL ID：200903097550781670

新規なモノマー及びこれを用いて得られるポリマー

発明者： 角野 元重
出願人/特許権者： 和光純薬工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-346607
公開番号（公開出願番号）：特開平11-263754
出願日： 1998年11月19日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】 220nm以下の遠紫外光、特にArFエキシマレーザ光等に対し高い透過性を有し、例えばレジスト組成物用のポリマーとして使用した場合には、エッチング耐性等に優れたレジスト膜が得られるという効果を奏する新規なポリマー及び該ポリマーの原料モノマーとなり得る新規なモノマーの提供。【解決手段】 一般式[1]【化1】(式中、X’は重合性二重結合を有する、置換基を有していても良い環式炭化水素基を表し、Zはスペーサー又は結合手を表し、Rは保護された水酸基を1又は2個有する置換アルキル基又は置換アルケニル基を表す。)で示されるモノマー、及び該モノマー由来のセグメントを構成単位として含んで成るポリマー。

請求項（抜粋）：

一般式[1]【化1】(式中、X’は重合性二重結合を有する、置換基を有していても良い環式炭化水素基を表し、Zはスペーサー又は結合手を表し、Rは保護された水酸基を1又は2個有する置換アルキル基又は置換アルケニル基を表す。)で示されるモノマー。

IPC (9件)：

C07C 69/734 ,  C07D207/404 ,  C07D307/60 ,  C07D317/30 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C08F 32/08 ,  C08F222:04 ,  C08F222:40

FI (7件)：

C07C 69/734 Z ,  C07D207/404 ,  C07D307/60 Z ,  C07D317/30 ,  C07D319/06 ,  C07D319/08 ,  C08F 32/08