特許
J-GLOBAL ID:200903097557295029
2-フェニルピラン-4-オン誘導体
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小田島 平吉
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-567725
公開番号(公開出願番号):特表2003-527389
出願日: 2001年03月16日
公開日(公表日): 2003年09月16日
要約:
【要約】本発明は、一般式(I)の2-(4-スルホニルフェニル)ピラン-4-オン誘導体、それらの製造方法、それらを含有する製薬学的組成物およびそれらの医学的使用に関する。【化1】
請求項(抜粋):
式(I):【化1】[式中:R1はアルキルもしくは-NR5R6基を表し、ここでR5およびR6はそれぞれ独立に水素原子もしくはアルキル基を表し;R2はアルキル、C3-C7シクロアルキル、ピリジル、チエニル、ナフチル、テトラヒドロナフチルもしくはインダニル基、あるいは未置換であってよいかあるいは1個もしくはそれ以上のハロゲン原子あるいはアルキル、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、アルコキシ、メチルチオ、アミノ、モノもしくはジアルキルアミノ、ヒドロキシアルキルまたはヒドロキシカルボニル基により置換されてよいフェニル基を表し;R3はアルキル、ヒドロキシメチル、アルコキシメチル、アルケニルオキシメチル、C3-C7シクロアルコキシメチル、C3-C7シクロアルキルメトキシメチル、ベンジルオキシメチル、ヒドロキシカルボニル、ニトリル、トリフルオロメチルもしくはジフルオロメチル基、またはR7-COO-CH2-基[式中、R7はアルキルもしくはフェニル基を表す]を表し;R4は、水素原子、またはアルキル、アルケニルもしくはアルキニル基、またはハロゲン原子を表し;そしてXは単結合、酸素原子、イオウ原子もしくはメチレン基を表す]の化合物;あるいはその製薬学的に許容できる塩。
IPC (8件):
C07D309/40
, A61K 31/351
, A61P 25/04
, A61P 25/28
, A61P 29/00
, A61P 29/02
, A61P 35/00
, A61P 43/00 111
FI (8件):
C07D309/40
, A61K 31/351
, A61P 25/04
, A61P 25/28
, A61P 29/00
, A61P 29/02
, A61P 35/00
, A61P 43/00 111
Fターム (15件):
4C062DD13
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086AA03
, 4C086AA04
, 4C086BA07
, 4C086MA01
, 4C086MA04
, 4C086NA14
, 4C086ZA07
, 4C086ZA08
, 4C086ZA15
, 4C086ZB11
, 4C086ZB26
, 4C086ZC20
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