特許
J-GLOBAL ID：200903097566775653
蒸着装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-059778
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222534
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】【目的】 蒸着装置において、精密な薄膜成長法に適用でき、且つ膜の中に炭素を精密な添加割合で添加する。また作製される膜の厚みを非常に薄い精度で作製する。【構成】 真空中にて熱フィラメント2から放出された電子を加速し且つ磁場又は電場により偏向し電子ビーム9として蒸発物質6に照射し、これを加熱して蒸発させる蒸着装置であり、蒸発物質は炭素であり、この炭素を収容するルツボ3、このルツボの周囲部分の表面、電子の軌道を偏向するハース部分5A,5Bのそれぞれを炭素材料7で覆う。更に、蒸発物質を収容するルツボの周囲部分の表面に接触する熱電対10と、この熱電対の出力信号を入力し、熱電対の出力値が所定の値に保持されるように、熱フィラメントへの給電量を制御する制御手段11を設ける。
請求項（抜粋）：
真空中にて熱フィラメントから放出された電子を加速し且つ磁場又は電場により偏向し電子ビームとして蒸発物質に照射し、この蒸発物質を加熱して蒸発させる蒸着装置において、前記蒸発物質は炭素であり、この炭素を収容するルツボ、このルツボの周囲部分の表面、電子の軌道を偏向するハース部分のそれぞれを炭素材料で覆ったことを特徴とする蒸着装置。
引用特許：
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