特許
J-GLOBAL ID：200903097567615374
薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三反崎 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079201
公開番号（公開出願番号）：特開2000-276704
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：
【要約】【課題】 磁極幅を縮小化した場合においても、磁極幅の正確な制御と十分なオーバーライト特性を実現し得る薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 上部磁極17における、中間部17bとトラック幅を規定する先端部17cとの連結部に、ほぼ直角に変化する幅方向の段差を設ける。上部磁極17を形成する際のマスクとして機能するフォトレジストパターン82を、ネガティブ型のフォトレジストを用いて形成する。このフォトレジストパターン82の形成に用いるフォトマスク81には、その幅方向の段差81dのコーナー部81eに、凹部パターン81fを設ける。これにより、上部磁極17の中間部17bと先端部17cとの連結部におけるコーナー部がシャープなエッジとなる。スロートハイトを変更しても記録トラック幅は変わることがなく、安定した記録トラック幅が得られると共に、記録トラック幅の狭小化が可能である。
請求項（抜粋）：
磁気的に連結され、かつ記録媒体に対向する側の一部がギャップ層を介して対向する2つの磁極を含む少なくとも2つの磁性層と、これらの少なくとも2つの磁性層の間に絶縁層を介して配設された薄膜コイル部とを備えると共に、前記2つの磁性層のうちの少なくとも一方の磁性層が、記録媒体に対向する記録媒体対向面から前記絶縁層における記録媒体に近い側の端縁部またはその近傍にかけて延在し記録媒体の記録トラックの幅を規定する一定幅を有する第1の磁性層部分と、第1の磁性層部分の幅よりも大きな幅を有し前記絶縁層の前記端縁部またはその近傍において前記第1の磁性層部分と磁気的に連結する第2の磁性層部分と、第1の磁性層部分と第2の磁性層部分との連結部に形成された幅方向の段差とを有する薄膜磁気ヘッドを製造するための方法であって、前記第1の磁性層部分および第2の磁性層部分の形状に対応する基本形状を有すると共に前記連結部の段差に対応するコーナー部分に凹部または凸部パターンを有する遮光用マスクを用いて、フォトリソグラフィ処理を行い、所定の形状のフォトレジストパターンを形成する工程と、形成されたフォトレジストパターンを用いて前記一方の磁性層を選択的に形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
FI (2件)：
G11B 5/31 D
, G11B 5/31 C
5D033BA07
, 5D033BA13
, 5D033DA04
, 5D033DA09
