特許

J-GLOBAL ID：200903097568300695

縦型熱処理炉

発明者： 廣瀬 功治
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-173926
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020980
出願日： 1992年07月01日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：

【要約】【目的】ガスの流れを改善し、半導体ウェハに形成される膜厚の面内均一性を向上させる。【構成】縦型熱処理炉であって、頭部に複数のガス導入穴9をもつとともに下側にガス排出穴10を複数個をもつ内管5bと、この内管5bの上部側を包むとともに下側にガス導入管7をもつ外管5aと、内管5bのガス排出穴10が形成される壁部5dを囲みガス排出管8をもつ外囲室5cとを備える構造の反応管5にし、ガス導入管7より供給されるガスをガス導入穴9より通し、下側に向って流し、内管5b内に水平に並べて収納されるウェハ1の面に接触しながら半径方向に向って流れるようにし、ガス排出穴10を通ってガス排気管8から管外にガうを排出させるようにしている。

請求項（抜粋）：

頭部に複数のガス導入穴を有し下部の側壁に複数のガス排出穴をもつとともに半導体基板が複数枚並べて積載されるボートを収納する内管と、この内管の頭部を含む上側部を包むとともに下側にガス導入管が取付けられる外管と、前記内管の側壁を囲み、閉鎖するとともにガス排気管をもつ外囲室とを備えることを特徴とする縦型熱処理炉。

IPC (2件)：

H01L 21/22 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-068522
  
• 特開平4-068522
  
• 特開平1-241819
  
• 特開平3-273616