特許

J-GLOBAL ID：200903097572110825

水素製造装置

発明者： 加藤 秀晴 ,  谷口 浩之
出願人/特許権者： 三菱化工機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-022563
公開番号（公開出願番号）：特開2002-226867
出願日： 2001年01月31日
公開日（公表日）： 2002年08月14日
要約：

【要約】【課題】水素分離膜の透過側に得られる高純度水素を、炭化水素からの水素製造装置における水添脱硫用水素として用いるにあたり、動力費を低減することができる装置を提供する。【解決手段】原料炭化水素を水添脱硫したのち、水蒸気改質し、生成したに水素含有ガスを水素分離膜で分離して高純度水素を製造する水素製造装置において、高純度水素を脱硫用水素として循環するガス圧縮循環装置が、高純度水素を水素分離膜の非透過側に得られるオフガスの圧力で加圧するガス圧縮循環装置であることを特徴とする水素製造装置。

請求項（抜粋）：

原料炭化水素に水素を添加して水素化触媒と接触させ、原料炭化水素中の硫黄分を水素化したのち、脱硫触媒と接触させて脱硫する水添脱硫装置と、該水添脱硫装置からの脱硫炭化水素に水蒸気を添加して改質触媒と接触させ、水素含有ガスを生成する水蒸気改質装置と、該水蒸気改質装置からの水素含有ガスを水素分離膜により分離し、透過側に高純度水素及び非透過側にオフガスを得る水素分離膜装置と、該水素分離膜装置からの高純度水素を加圧し、前記水添脱硫装置用の水素として循環するガス圧縮循環装置を設けた水素製造装置において、前記ガス圧縮循環装置が、前記高純度水素を前記オフガスの圧力で加圧するガス圧縮循環装置であることを特徴とする水素製造装置。

IPC (4件)：

C10G 67/06 ,  C01B 3/38 ,  C01B 3/56 ,  C10K 1/00

FI (4件)：

C10G 67/06 ,  C01B 3/38 ,  C01B 3/56 Z ,  C10K 1/00

Fターム (31件)：

4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB01 ,  4G040EB31 ,  4G040FA02 ,  4G040FC01 ,  4G040FC07 ,  4G040FE01 ,  4G140EA03 ,  4G140EA06 ,  4G140EB01 ,  4G140EB31 ,  4G140FA02 ,  4G140FC01 ,  4G140FC07 ,  4G140FE01 ,  4H029DA06 ,  4H029DA09 ,  4H060AA02 ,  4H060BB08 ,  4H060BB21 ,  4H060BB33 ,  4H060CC03 ,  4H060CC04 ,  4H060CC14 ,  4H060DD03 ,  4H060EE03 ,  4H060FF02 ,  4H060FF18 ,  4H060GG02 ,  4H060GG08