特許
J-GLOBAL ID：200903097575066894
ランプアニール炉の温度制御装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岸本 瑛之助 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-158495
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005588
出願日： 1991年06月28日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】【目的】 定常偏差をなくして精度の高い温度制御ができるようにする。【構成】 被加熱物を加熱するランプ群(6) 、被加熱物の温度を測定する放射温度計(12)、および放射温度計(12)の出力に基づいてランプ出力を制御するランプ出力制御装置(14)を備える。放射温度計(12)の出力が放射温度計(12)で測定可能な最低温度以上の閉ループ制御可能温度域に達するまでは予め定めたランプ出力制御パターンにしたがってランプ出力を制御する開ループ制御を行ない、放射温度計(12)の出力が閉ループ制御可能温度域に達したのちは、放射温度計(12)による測定温度の勾配と目標温度制御パターンの勾配とを比較し、前者と後者の勾配の比が制御切替え基準値より小さい間は開ループ制御を継続し、勾配の比が制御切替え基準値以上になったのちに測定温度を目標温度制御パターンに一致させるようにランプ出力を制御する閉ループ制御を行なう。
請求項（抜粋）：
被加熱物を加熱するランプ群、被加熱物の温度を測定する放射温度計、および放射温度計の出力に基づいてランプ出力を制御するランプ出力制御装置を備えており、ランプ出力制御装置が、目標温度制御パターンを予め記憶しており、放射温度計の出力が放射温度計で測定可能な最低温度以上の所定の閉ループ制御可能温度域に達するまでは予め定められたランプ出力制御パターンにしたがってランプ出力を制御する開ループ制御を行ない、放射温度計の出力が上記閉ループ制御可能温度域に達したのちは、放射温度計による測定温度の勾配と目標温度制御パターンの勾配とを比較し、前者と後者の勾配の比が所定の制御切替え基準値より小さい間は上記開ループ制御を継続し、上記勾配の比が上記制御切替え基準値以上になったのちに測定温度を目標温度制御パターンに一致させるようにランプ出力を制御する閉ループ制御を行なうようになされているランプアニール炉の温度制御装置。
IPC (2件)：
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