特許
J-GLOBAL ID：200903097580274055
エッチング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-124351
公開番号（公開出願番号）：特開平11-317396
出願日： 1998年05月07日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：
【要約】【課題】 ウエハの周縁部におけるエッチングレートの低下を抑制し、ウエハ面内におけるエッチング均一性を向上できるようにする。【解決手段】 チャンバ2内に上部電極3と下部電極4とが対向して設けられ、これら上部電極3と下部電極4との間にプラズマを発生させて下部電極4の上面4aに保持されるウエハ10の被処理物をエッチングするエッチング装置1において、上部電極3の下面3aが、その下面3aの略中央部における上部電極3と下部電極4とのギャップh2 よりも下面3aの周縁部における上部電極3と下部電極4とのギャップh1 が小さくなるように凹型に湾曲した形状に形成された構成となっている。
請求項（抜粋）：
チャンバ内に上部電極と下部電極とが対向して設けられ、これら上部電極と下部電極との間にプラズマを発生させて下部電極の上面に保持されるウエハの被処理物をエッチングするエッチング装置において、前記上部電極の下面は、該下面の略中央部よりも周縁部にて該上部電極と前記下部電極との間隙が小さくなるように凹型に湾曲した形状に形成されてなることを特徴とするエッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 C
, C23F 4/00 A
