レーザ光による微小マーキング装置とそのマーキング方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野口武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-323080
公開番号（公開出願番号）：特開平11-156563
出願日： 1997年11月25日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】微小なドットマークであっても視認性に優れたドット形状を得ることと、かかる微小なドットを正確に形成し得るためのドットマーキング装置とそのマーキング方法を提供する。【解決手段】レーザ発振器(10)と、前記レーザ発振器(10)から照射されるレーザビームのエネルギー分布を平滑化するビームホモジナイザ(20)と、パターンの表示に合わせて前記レーザビームを制御駆動して透過/非透過状態にする液晶マスク(30)と、前記液晶マスク(30)の1ドットに対応して、前記レーザビームのエネルギー密度分布を所要の分布形状に成形変換するビームプロファイル変換手段(40)と、前記液晶マスク(30)の透過ビームをドット単位で半導体ウェハ表面に結像させるレンズユニット(50)とを備えており、前記液晶マスクの1ドットの最大長さが50〜2000μmであり、前記レンズユニットによる1ドットの最大長さが1〜10μmとする。この装置により形成されるドットマークは穴開口の周壁が急峻な傾斜で切り込まれた、例えば藤壺形状をなしており、穴の内外明暗差が極めて大きいものである。

請求項（抜粋）：

レーザを光源として被マーキング物品の表面に文字、バーコードなどをマーキングするマーキング装置であって、レーザ発振器と、前記レーザ発振器から照射されるレーザビームのエネルギー分布を平滑化するビームホモジナイザと、パターンの表示に合わせて前記レーザビームを透過/非透過駆動される液晶マスクと、前記液晶マスクの1ドットに対応して、前記レーザビームのエネルギー密度分布を所要の分布形状に成形変換するビームプロファイル変換手段と、前記液晶マスクの透過ビームをドット単位で半導体ウェハ表面に結像させるレンズユニットとを備えてなり、前記液晶マスクの1ドットの最大長さが50〜2000μmであり、前記レンズユニットによる1ドットの最大長さが1〜15μmである、ことを特徴とするレーザビームによる微小マーキング装置。

IPC (3件)：

B23K 26/00 , B23K 26/06 , H01L 21/02

FI (5件)：

B23K 26/00 B , B23K 26/00 J , B23K 26/00 N , B23K 26/06 Z , H01L 21/02 A

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