特許
J-GLOBAL ID：200903097631222284
シャドウマスクパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邊 隆
, 志賀 正武
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-347030
公開番号（公開出願番号）：特開2006-190655
出願日： 2005年11月30日
公開日（公表日）： 2006年07月20日
要約：
【課題】有機電界発光ディスプレイ装置の有機電界発光素子を製造するために有機物層を蒸着する時、使用されるマスクにパターンが形成されるうちに印加される張力が、マスクのパターン形成部に均一に作用してパターンが曲がったり歪んだりすることを防止することができるシャドウマスクパターンの形成方法を提供する。【解決手段】マスクフレームに引張力が印加された状態に固定される固定部と、パターンが形成されるパターン形成部でなるマスクシートにパターンを形成する方法において、前記マスクシートの下部に相対的に厚い厚さを持つ補助シートを位置させる段階と、前記マスクシートと補助シートに前記引張力に対応する張力を印加しながら前記マスクシートと補助シートを一緒に固定する段階と、固定されたマスクシートのパターン形成部にパターンを形成する段階とからなる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
マスクフレームに引張力が印加された状態に固定される固定部とパターンが形成されるパターン形成部でなるマスクシートにパターンを形成する方法において、
前記マスクシートの下部に相対的に厚い厚さを持つ補助シートを位置させる段階と;
前記マスクシートと補助シートに前記引張力に対応する張力を印加しながら前記マスクシートと補助シートを一緒に固定する段階と;
固定されたマスクシートのパターン形成部にパターンを形成する段階と、からなることを特徴とするシャドウマスクパターンの形成方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, C23C 14/04
H05B33/10
, H05B33/14 A
, C23C14/04 A
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 4K029BA62
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029HA01
, 4K029HA02
, 4K029HA03
