特許

J-GLOBAL ID：200903097637491309

像投影方法及び該方法を用いた半導体デバイスの製造方法

発明者： 早田 滋
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-194113
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036585
出願日： 1991年08月02日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 投影光学系で微細縦横パタ-ンを結像する際の焦点深度を拡大すること。【構成】 照明光学系30に矩形の環状開口を備える絞り30Aを配置し、この絞りの作用で、投影光学系50の瞳50Aに矩形環状有効光源を形成するせしめる矩形の環状2次光源を形成する。この2次光源からの光で、レチクルMの前記有効光源の輪郭に沿った方向に延びる縦横パタ-ンを照明し、この縦横パタ-ンで生じる多数の0次及び1次回折光を、瞳50Aに、瞳中心を中心として矩形の輪郭を形作るよう分布するように入射させ、これらの回折光により縦横パタ-ンを結像する。

請求項（抜粋）：

縦横パタ-ンを備える微細パタ-ンを照明し、該微細パタ-ンで生じる回折光を投影光学系の瞳に入射させて該微細パタ-ンの像を投影する方法において、前記瞳に前記縦横パタ-ンの各方向に延びる辺を備えた環状の有効光源を形成する光で前記微細パタ-ンを照明することを特徴とする像投影方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G02B 27/42 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 301 P

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-369208
  
• 特開平4-179958
  
• 特開昭61-091662