特許
J-GLOBAL ID:200903097637605800
Agめっき性が優れた半導体リードフレーム用銅合金
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
香本 薫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-145734
公開番号(公開出願番号):特開平8-319528
出願日: 1995年05月20日
公開日(公表日): 1996年12月03日
要約:
【要約】【目的】 Cu-Ni-Si系半導体リードフレーム用銅合金のAgめっきにおいて、Agめっき突起の発生を防止する。【構成】 Ni:0.4〜4.0wt%、Si:0.1〜1.0wt%、Zn:0.05〜2.0wt%、Mn:0.02〜1.0wt%、Mg:0.00001〜0.001wt%(但し、0.001wt%を含まず)、S:0.003wt%以下含有し、さらに、B:0.001〜0.01wt%、Cr0.001〜0.01wt%、Ti:0.001〜0.01wt%、Zr:0.001〜0.01wt%の中から選んだ1種又は2種以上を合計で0.001〜0.01wt%含有し、残部銅及び不可避不純物からなることを特徴とするAgめっき性が優れた半導体リードフレーム用銅合金。Mg含有量を0.001wt%未満に制限することでAgめっき突起の発生を防止する。
請求項(抜粋):
Ni:0.4〜4.0wt%、Si:0.1〜1.0wt%、Zn:0.05〜2.0wt%、Mn:0.02〜1.0wt%、Mg:0.00001〜0.001wt%(但し、0.001wt%を含まず)、S:0.003wt%以下含有し、さらに、B:0.001〜0.01wt%、Cr0.001〜0.01wt%、Ti:0.001〜0.01wt%、Zr:0.001〜0.01wt%の中から選んだ1種又は2種以上を合計で0.001〜0.01wt%含有し、残部銅及び不可避不純物からなることを特徴とするAgめっき性が優れた半導体リードフレーム用銅合金。
IPC (2件):
FI (2件):
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