特許
J-GLOBAL ID：200903097638673567
アルカリ現像用レジスト
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-056610
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244235
出願日： 1996年03月14日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好なレジストパターンを形成することができるアルカリ現像用レジストの提供。【解決手段】 下記一般式(1)で表される4〜6員環を分子中に有する酸性化合物、並びにこの酸性化合物のエーテル及び塩から選択された少なくとも1種の化合物を含有する。【化1】(式中、R1 ,R2 はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基または1価の有機基、R3 は2価の有機基を示すが、R1 及びR2 のうち少なくとも一方はヒドロキシル基である。)
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される4〜6員環を分子中に有する酸性化合物、並びにこの酸性化合物のエーテル及び塩から選択された少なくとも1種の化合物を含有するアルカリ現像用レジスト。【化1】(式中、R1 ,R2 はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基または1価の有機基、R3 は2価の有機基を示すが、R1 及びR2 のうち少なくとも一方はヒドロキシル基である。)
IPC (6件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/029
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
G03F 7/004 503
, G03F 7/004 501
, G03F 7/029
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/30 502 R
