特許

J-GLOBAL ID：200903097641095191

酸素スカベンジャー組成物

発明者： シンシア・ルイーズ・エブナー ,  ジヨン・スコツト・ハロツク
出願人/特許権者： クライオバック・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-132021
公開番号（公開出願番号）：特開2001-040350
出願日： 2000年05月01日
公開日（公表日）： 2001年02月13日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 初期酸素掃去材料や酸化副生成物が、接触している物品に移動したり、物品の色、味、匂等を損うことのない、高度の酸素掃去能及び酸素掃去活性を有する酸素スカベンジャ組成物及び方法を提供する。【解決手段】 ヒドロキソスルフィトメタレートと遷移金属化合物を併用したキャリアーを含む組成物であって、ヒドロキソスルフィトメタレートを遷移金属イオンのモル比は、3000:1〜1:1の範囲にある。具体的には、NaMg2OH(SD3)2・H2OとCuSO4・5H2Oの均質混合物等が例示される。

請求項（抜粋）：

ヒドロキソスルフィトメタレートと遷移金属化合物の併用剤を実質的に均質に分配したキャリヤーを含む酸素スカベンジャー組成物であって、前記ヒドロキソスルフィトメタレート(HSM)が前記組成物の0.05〜90重量%存在しており、式:MIMII2OH(SO3)2・H2O(式中MIは1価カチオンを表し、MIIは2価カチオンを表す)により表され、前記遷移金属化合物はHSMと遷移金属イオンのモル比が3000:1〜1:1となるような量で存在している前記酸素スカベンジャー組成物。

IPC (5件)：

C09K 15/02 ,  B65D 81/26 ,  C08K 3/10 ,  C08K 3/30 ,  C08L101/00

FI (5件)：

C09K 15/02 ,  B65D 81/26 R ,  C08K 3/10 ,  C08K 3/30 ,  C08L101/00