ガスバリアフィルム、及びこれを用いた積層材

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石川泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-319785
公開番号（公開出願番号）：特開2002-127294
出願日： 2000年10月19日
公開日（公表日）： 2002年05月08日
要約：

【要約】【課題】極めて優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルム、およびこれを用いた積層材を提供することを目的とする。【解決手段】基材と、当該基材の両面または片面にプラズマCVD法により形成された酸化ケイ素膜と、当該酸化ケイ素膜の表面を覆う樹脂硬化膜と、を有するガスバリアフィルムにおいて、前記樹脂硬化膜と接する酸化ケイ素膜の表面を、ガスバリア性に乏しい部分を除去するための除去処理をしたことにより生じた微細な凹凸が形成されてた構造とする。

請求項（抜粋）：

基材と、当該基材の両面または片面にプラズマCVD法により形成された酸化ケイ素膜と、当該酸化ケイ素膜の表面を覆う樹脂硬化膜と、を有するガスバリアフィルムであって、前記樹脂硬化膜と接する酸化ケイ素膜の表面には、ガスバリア性に乏しい部分を除去するための除去処理をしたことにより生じた微細な凹凸が形成されていることを特徴とするガスバリアフィルム。

IPC (3件)：

B32B 9/00 , C23C 16/42 , C23C 16/56

FI (3件)：

B32B 9/00 A , C23C 16/42 , C23C 16/56

Fターム (46件)：

4F100AA20B , 4F100AA20D , 4F100AH06C , 4F100AH06E , 4F100AH06H , 4F100AH08C , 4F100AH08E , 4F100AH08H , 4F100AK01C , 4F100AK01E , 4F100AK41A , 4F100AK69C , 4F100AK69E , 4F100AK69K , 4F100AT00A , 4F100BA05 , 4F100BA06 , 4F100BA10C , 4F100BA10E , 4F100CA02C , 4F100CA02E , 4F100CA30C , 4F100CA30E , 4F100DD07B , 4F100EH46 , 4F100EH66B , 4F100EH66D , 4F100EJ15B , 4F100EJ38A , 4F100EJ59 , 4F100EJ61B , 4F100EJ61D , 4F100GB15 , 4F100GB41 , 4F100JB12C , 4F100JB12E , 4F100JD02 , 4F100JL12E , 4F100JM02B , 4F100JM02D , 4K030BA44 , 4K030CA07 , 4K030CA12 , 4K030DA08 , 4K030LA01 , 4K030LA11

引用特許：

審査官引用 (7件)

特許第3512704号
塗膜を形成したフィルム及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-144543 出願人：大日本印刷株式会社
電気化学的な生物制御用または防汚用部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-246117 出願人：ぺんてる株式会社, 松永是

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