特許
J-GLOBAL ID:200903097650027697

核酸ポリマーパターン薄膜とその形成方法並びに薄膜 用組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-021477
公開番号(公開出願番号):特開平10-219008
出願日: 1997年02月04日
公開日(公表日): 1998年08月18日
要約:
【要約】【課題】 形状特異性のある核酸ポリマー薄膜を提供する。【解決手段】 核酸ポリマーと疎水性カチオン性界面活性剤との混合により形成したポリイオンコンプレックスを疎水性有機溶媒に溶解し、得られた溶液を固体表面に展開して乾燥し、細線構造や網目構造にパターン化された核酸ポリマーのパターン薄膜を得る。
請求項(抜粋):
核酸ポリマーのパターン化された薄膜であることを特徴とする核酸ポリマーパターン薄膜。
IPC (4件):
C08J 5/18 CFJ ,  B29C 41/12 ,  C07H 21/04 ,  G01N 33/543 593
FI (4件):
C08J 5/18 CFJ ,  B29C 41/12 ,  C07H 21/04 B ,  G01N 33/543 593
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る