特許
J-GLOBAL ID:200903097666776185

透光性電磁波シールド膜の製造方法および透光性電磁波シールド膜

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-184436
公開番号(公開出願番号):特開2006-012935
出願日: 2004年06月23日
公開日(公表日): 2006年01月12日
要約:
【課題】 高いEMIシールド性と高い透明性とを同時に有する、モアレのない透過性電磁波シールド膜の製造方法であって、細線状パターンの形成が容易であり、しかも安価で大量に製造できる透過性電磁波シールド膜の製造方法を提供すること。【解決手段】 支持体上に銀塩を含有する乳剤層と保護層とをこの順で有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって露光部および未露光部に、それぞれ金属銀部および光透過性部を形成し、さらに前記金属銀部に物理現像および/またはメッキ処理を施すことによって前記金属銀部に導電性金属を担持させることを特徴とする透光性電磁波シールド膜の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
支持体上に銀塩を含有する乳剤層と保護層とをこの順で有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって露光部および未露光部に、それぞれ金属銀部および光透過性部を形成し、さらに前記金属銀部に物理現像および/またはメッキ処理を施すことによって前記金属銀部に導電性金属を担持させることを特徴とする透光性電磁波シールド膜の製造方法。
IPC (1件):
H05K 9/00
FI (1件):
H05K9/00 V
Fターム (5件):
5E321BB23 ,  5E321BB41 ,  5E321BB44 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01
引用特許:
出願人引用 (4件)
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