特許
J-GLOBAL ID：200903097667327198
転写シート及びインキ層形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内田 亘彦 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-060869
公開番号（公開出願番号）：特開平10-255649
出願日： 1997年03月14日
公開日（公表日）： 1998年09月25日
要約：
【要約】【課題】 本発明の目的は、PDPや多層電極板において、凸状電極パターン上も含め基板上に転写抜けのない誘電体層を形成でき、歩留りを向上させることができ、更に、誘電体層形成層の表面平滑性に優れ、かつ膜厚が均一で分布精度の良好な層形成を可能とする転写シート及び凸状パターンへのインキ層形成方法の提供にある。【解決手段】 本発明の転写シートは、ベースフイルム上に少なくもガラスフリットを有する無機粒子および融点が30°C〜120°Cのワックス類とを含有するインキ層を有する転写シートにおいて、該インキ層が無機粒子100重量部に対して前記ワックス類を12重量部〜400重量部の割合で含有するものであり、また、インキ層形成方法は、基板上に、ベースフイルム上に少なくもガラスフリットを有する無機粒子および融点が30°C〜120°Cのワックス類とを含有するインキ層を有する転写シートをそのインキ層側からラミネートし、該インキ層を基板上に熱転写するものである。
請求項（抜粋）：
ベースフイルム上に少なくもガラスフリットを有する無機粒子および融点が30°C〜120°Cのワックス類とを含有するインキ層を有する転写シートにおいて、該インキ層が無機粒子100重量部に対して前記ワックス類を12重量部〜400重量部の割合で含有することを特徴とする転写シート。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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