特許
J-GLOBAL ID:200903097680583683
ガラス膜の焼成方法および連続焼成装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
池田 治幸 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-348365
公開番号(公開出願番号):特開2001-163637
出願日: 1999年12月08日
公開日(公表日): 2001年06月19日
要約:
【要約】【課題】工程の安定性が高く且つ内部気泡の少ないガラス膜を製造するための焼成方法および連続焼成装置を提供する。【解決手段】誘電体層を焼成する際の昇温過程A〜Cにおいてガラス粉末が軟化する過程で、減圧昇温工程Cにおいて減圧させられると、乾燥膜の内部から表面に気孔が連通している段階でその外部空間が乾燥膜内部よりも低圧となるため、その乾燥膜内部に存在する気体が表面から排出される。そのため、保持温度まで昇温させられることによりガラス粉末が軟化し且つ相互に結合させられる際には、内部に気体が殆ど存在しないことから、生成されるガラス膜延いては誘電体層内に気泡が残存することが抑制される。また、気泡の残留が抑制されることから、保持温度を軟化点Tspよりも僅かに高い550(°C) 程度の温度に設定すればよいため、その保持温度を高く設定する場合の工程の安定性に欠ける不都合が抑制される。
請求項(抜粋):
膜形成面に形成したガラス粉末および樹脂成分を含む乾燥膜をそのガラス粉末の軟化点よりも所定値だけ高い保持温度まで昇温することにより、その樹脂成分を焼失させると同時にそのガラス粉末を相互に結合させてその乾燥膜からガラス膜を生成するガラス膜の焼成方法であって、前記保持温度まで昇温させる過程において、前記ガラス粉末が軟化する過程で前記乾燥膜の焼成雰囲気を減圧する減圧工程を含むことを特徴とするガラス膜の焼成方法。
IPC (3件):
C03C 17/04
, H01J 9/02
, H01J 11/02
FI (3件):
C03C 17/04 Z
, H01J 9/02 F
, H01J 11/02 B
Fターム (16件):
4G059AA08
, 4G059AB01
, 4G059AB09
, 4G059AB19
, 4G059AC20
, 4G059CA01
, 4G059CB09
, 4G059FA05
, 4G059FA07
, 4G059FA15
, 4G059FA28
, 5C027AA06
, 5C040GD09
, 5C040JA22
, 5C040JA31
, 5C040MA23
引用特許:
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