特許

J-GLOBAL ID：200903097683030227

特にフォトレジストのためのマレイミドコポリマー

発明者： ウルリッヒ シェーデリ ,  ノルベルト ミュンツェル ,  クリストフ デ レオ ,  ハインツ ホルバルト ,  エリック ティンギュリー
出願人/特許権者： チバ-ガイギー アクチエンゲゼルシャフト ,  オーシージー マイクロエレクトロニック マテリアルズ アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-335601
公開番号（公開出願番号）：特開平7-206939
出願日： 1994年12月21日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：

【要約】【構成】次式(Ia)、(Ib)および式(II)の反復構造単位からなる重量平均分子量103 〜106 のポリマー、該ポリマーと化学線への露光において酸を生成する少なくとも1種の化合物からなるポジ型フォトレジストに使用できる放射線感受性組成物、該組成物を用いた基板の処理方法、保護被覆、レリーフ構造体。【化1】(基の例:R1 ,R3 〜R6 =H、A=直接結合、-O-、R2 =-CH2 COOC(CH3 )2 、R7 =H、C1-6 アルキル、-CH2 OH、-CH2 OCOCH3 )【効果】遅延時間作用が大きく抑制され、高い熱安定性および解像度を有し、DUVポジ型フォトレジストとしての使用に好適である。

請求項（抜粋）：

次式(Ia)および(Ib)【化1】{式中、Aは直接単結合または式-O-で表される2価の基を表し;R0 およびR1 は互いに独立して、水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル基、または6ないし14個の環炭素原子を有するアリール基を表し;R2 は式【化2】〔式中、[T]は炭素原子数1ないし6のアルキレン基または6ないし14個の環炭素原子を有するアリーレン基を表し;Rは4ないし19個の炭素原子を有する第三アルキル基、式【化3】(式中、R17は水素原子または炭素原子数1ないし4のアルキル基を表し;R18は炭素原子数1ないし6のアルキル基または炭素原子数3ないし6のシクロアルキル基を表し;およびR19は6ないし14個の環炭素原子を有するアリール基を表す。)で表される基を表し;およびpは2,3または4の数を表す。〕で表される基を表すか、あるいは、AはR2 と一緒に式【化4】〔式中、R11およびR12は互いに独立して、おのおの水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル基、3ないし6個の環炭素原子を有するシクロアルキル基または6ないし10個の環炭素原子を有するアリール基(該アリール基は未置換またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基および炭素原子数1ないし4のアルコキシ基ならびに-CNおよび-NO2 から選択された置換基の1以上で置換されている。)を表し;R13は炭素原子数1ないし6のアルキル基、3ないし6個の環炭素原子を有するシクロアルキル基または6ないし10個の環炭素原子を有するアリール基(該アリール基は未置換またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基および炭素原子数1ないし4のアルコキシ基ならびに-CNおよび-NO2 から選択された置換基の1以上で置換されている。)を表す。〕で表される基を表すか、あるいは、さらにまたR3 およびR4 は互いに独立して、おのおの水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1ないし6のアルキル基を表すか、または炭素原子数1ないし6のアルコキシ基を表す。}で表される構造単位から選択される反復構造単位、ならびにこれらの構造単位に加えて、式(II)【化5】〔式中、R5 およびR6 は互いに独立して、おのおの水素原子、炭素原子数1ないし6のアルキル基または6ないし14個の環炭素原子を有するアリール基を表し;R7 は水素原子、ヒドロキシ基、トリアルキルシリル基、炭素原子数1ないし6のアルキル基、6ないし14個の環炭素原子を有するアリール基または式:-[G]-O-R8(式中、[G]は炭素原子数1ないし6のアルキレン基または6ないし14個の環炭素原子を有するアリーレン基を表し;R8 は水素原子、トリアルキルシリル基または式:【化6】で表される基を表し、R9 は水素原子またはメチル基を表す。)で表される基を表すか、あるいはR7 は式【化7】(式中、R10は炭素原子数1ないし6のアルキル基または6ないし14個の環炭素原子を有するアリール基を表す。)で表される基を表す。〕で表される反復構造単位を含むポリマー。

IPC (4件)：

C08F212/14 MJU ,  C08F220/30 MMK ,  C08F222/40 MNE ,  G03F 7/038 504