特許
J-GLOBAL ID：200903097683193720
熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-098421
公開番号（公開出願番号）：特開平5-295549
出願日： 1992年04月20日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：
【要約】【目的】 反応の遅い処理ガスを処理室に送る前に予め加熱または反応させ、処理を安定化すると共にスループットを向上できるようにする。【構成】 インナーチューブ26などによって形成される処理室に導入した処理ガスを用いてウェハ8を処理する熱処理装置であって、配管30側を通して前記処理室に供給される反応性の遅い処理ガスのみを独立させて設けた予備反応室32に通し、ここで紫外光を照射して反応性を高め、これを処理室へ供給するようにする。
請求項（抜粋）：
処理室に導入した処理ガスを用いて被加工物を加熱または処理する熱処理装置であって、前記処理ガスを予備加熱し又はその反応性を高めるガス処理部を上記処理室の前段に独立に設けたことを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件)：
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