特許

J-GLOBAL ID：200903097688364883

高純度ビスフエノールAの分離方法

発明者： 前島 哲夫 ,  坂下 幸司 ,  渡辺 恒男 ,  恩田 信博 ,  浅岡 佐知夫
出願人/特許権者： 千代田化工建設株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-219163
公開番号（公開出願番号）：特開平5-039238
出願日： 1991年08月05日
公開日（公表日）： 1993年02月19日
要約：

【要約】【目的】 結晶アダクトから色相にすぐれた高純度ビスフェノールAを分離する方法を提供する。【構成】 ビスフェノールAとフェノールとの結晶アダクトを、溶融装置及び蒸発装置を含む装置系に供給し、該溶融装置において結晶アダクトを溶融し、該蒸発装置において結晶アダクト溶融液を蒸発処理してビスフェノールAとフェノールを相互に分離する方法において、該装置系に含まれる少なくとも前記溶融装置及び蒸発装置内壁面に付着する酸素量を、有機溶剤洗浄により、内壁面1m2当り10ミリモル以下に除去した後、結晶アダクトを前記装置系に供給し、溶融及び蒸発処理することを特徴とする高純度ビスフェノールAの分離方法。

請求項（抜粋）：

ビスフェノールAとフェノールとの結晶アダクトを、溶融装置及び蒸発装置を含む装置系に供給し、該溶融装置において結晶アダクトを溶融し、該蒸発装置において結晶アダクト溶融液を蒸発処理してビスフェノールAとフェノールを相互に分離する方法において、該装置系に含まれる少なくとも前記溶融装置及び蒸発装置内壁面に付着する酸素量を、有機溶剤洗浄により、内壁面1m2当り10ミリモル以下に除去した後、結晶アダクトを前記装置系に供給し、溶融及び蒸発処理することを特徴とする高純度ビスフェノールAの分離方法。

IPC (4件)：

C07C 39/16 ,  C07C 37/74 ,  C07C 37/82 ,  C07C 37/84