特許

J-GLOBAL ID：200903097714453423

位置合わせ装置および方法

発明者： 安福 祐次
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-270378
公開番号（公開出願番号）：特開平11-097511
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】 半導体露光装置等のデバイス装置において、メインテナンスの簡略化とアライメント時間の短縮を図る。【解決手段】 基板上に形成されたパターンの一部としてパターン内の複数箇所に設けられた位置合わせマークをそれらが設けられるべき標準位置の相対位置関係に基づいて計測基準位置へ向けて順次送り込み、送り込まれたマークを計測し、前記複数箇所の位置合わせマークの計測結果に基づいて基板上に形成されたパターン全体のシフト量、倍率および回転量を含む位置合わせのための補正パラメータを算出する過程において、前記計測基準位置へ順次送り込まれる複数箇所の位置合わせマークのうち、2番目以降のマークについては先に計測されたマークの計測結果に基づきそのマークがより正確に前記計測基準位置へ送り込まれるよう前記送り込みの量を補正する。

請求項（抜粋）：

基板上に形成されたパターンの一部としてパターン内の複数箇所に設けられた位置合わせマークをそれらが設けられるべき標準位置の相対位置関係に基づいて計測基準位置へ向けて順次送り込む手段と、送り込まれたマークを計測する手段と、前記複数箇所の位置合わせマークの計測結果に基づいて基板上に形成されたパターン全体のシフト量、倍率および回転量を含む位置合わせのための補正パラメータを算出する手段とを有する位置合わせ装置において、前記計測基準位置へ順次送り込まれる複数箇所の位置合わせマークのうち、2番目以降のマークについては先に計測されたマークの計測結果に基づきそのマークがより正確に前記計測基準位置へ送り込まれるよう前記送り込み手段による送り込み量を補正する手段を有することを特徴とする位置合わせ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

H01L 21/68 F ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 E