特許

J-GLOBAL ID：200903097717556177

基板処理装置

発明者： 下村 辰美 ,  三宅 克之
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 稲岡 耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-222904
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064880
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：

【要約】【課題】処理液を途切れることなくウエハの下面に到達させ、ウエハ下面の処理を均一に行う基板処理装置を提供する。【解決手段】回転板21は、周方向に沿って等角度間隔に設けられたアーム24および隣接するアーム24の間に形成された処理液通路70を含む。回転板21の斜め下方には、薬液A、薬液Bおよび純水Cを噴射するためのノズル11a,11b 、11c,11d 、11e,11f が配設されている。ノズルは、周方向に沿って等角度間隔に配設されているのではなく、中心軸Oから同種の処理液を噴射する2個のノズルを見込む角度が90度となるように配設されている。その結果、たとえばノズル11a からの薬液Aがアーム24で遮られるときノズル11b からの薬液Aは通路70を通ってウエハWの下面に到達し、逆に、ノズル11b からの薬液Aがアーム24で遮られるときにはノズル11a からの薬液Aが通路70を通ってウエハWの下面に到達する。

請求項（抜粋）：

回転可能に設けられ、上面および下面を有し、この上面と下面とを貫通する貫通部が形成された回転部材を備え、この回転部材の上面側で基板を保持するための基板保持部と、この基板保持部の下方に設けられ、同種の処理液を前記基板保持部に保持される基板の下面に向けて同時に供給するための複数のノズルとを含み、前記貫通部と前記複数のノズルから供給される各処理液の経路との位置関係は、前記複数のノズルのうち少なくともいずれか1つのノズルから供給される処理液が前記基板保持部に保持される基板の下面に前記貫通部を通過して到達するように定められていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/306 J ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/306 K