特許
J-GLOBAL ID:200903097718835487
電子放出源、その製造方法、及びディスプレイ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-225230
公開番号(公開出願番号):特開2001-052600
出願日: 1999年08月09日
公開日(公表日): 2001年02月23日
要約:
【要約】【課題】 低電圧駆動を可能にし、長寿命で高精細化が容易であり、かつ、大画面の極薄型ディスプレイ装置を容易に構成できる電子放出源を提供する。【解決手段】 電子放出源10は、下部基板1上にカソード電極ライン2が形成され、カソード電極ライン2上に絶縁層3が成膜され、さらに各カソード電極ライン2と交差してゲート電極ライン4が形成されている。各電極ライン2、4の交差領域には、ゲート電極ライン4と絶縁層3とを貫通してカソード電極ライン2に達する微細孔5が形成され、この微細孔5の底部となるカソード電極ライン2の表面に冷陰極薄膜7を有する。薄膜7は、カソード電極ライン2に所定の電位を印加しながら、炭素を主体とするターゲット基板にレーザ光を照射して成膜を行うことにより形成する。
請求項(抜粋):
基板の上面に第1の電極ラインが形成され、前記基板及び第1の電極ラインの上面に絶縁層が形成され、さらに前記絶縁層の上面に前記第1の電極ラインに交差する第2の電極ラインが形成され、前記第2の電極ラインと第1の電極ラインとが交差する領域に、第2の電極ラインと絶縁層を貫通して前記第1の電極ラインの上面に達する微細孔が設けられ、前記微細孔の中に前記第1の電極ラインよりも仕事関数が小さい電子放出物質からなる薄膜が形成された電子放出源であって、前記薄膜は、第1の電極ラインに所定の電位を印加させながら、炭素を主体とするターゲット基板にレーザ光を照射して成膜されたものである、ことを特徴とする電子放出源。
IPC (5件):
H01J 9/02
, C23C 14/06
, H01J 1/304
, H01J 29/04
, H01J 31/12
FI (5件):
H01J 9/02 B
, C23C 14/06 F
, H01J 29/04
, H01J 31/12 C
, H01J 1/30 F
Fターム (14件):
4K029BA34
, 4K029BD00
, 4K029CA13
, 4K029DB02
, 4K029DB20
, 5C031DD09
, 5C031DD17
, 5C036EE03
, 5C036EF01
, 5C036EF06
, 5C036EF08
, 5C036EG02
, 5C036EG12
, 5C036EH04
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